Система вакуумной плазменной очистки Экологически чистое и эффективное оборудование для плазменной очистки поверхности

Характеристики товара

Гарантия

1 год

Модель №.

ГА-2206-Б

Код ТН ВЭД

9024800000

Настройка

Доступно

Спецификация

Фанерный ящик

Происхождение

Китай

Торговая марка

ГОНАВА

Транспортная упаковка

Фанерный ящик

Производственная мощность

200

Послепродажное обслуживание

Онлайн

Подробное описание товара от поставщика

Описание продукта

Вакуумный плазменный очиститель Система плазменной очистки Эффективное и экологически чистое оборудование для очистки поверхности:
Вакуумный плазменный очиститель (плазменный очиститель) газ разделяется на плазменное состояние с помощью источника возбуждения, и плазма воздействует на поверхность продукта, очищая загрязнения на его поверхности, тем самым улучшая активность поверхности и увеличивая адгезию. Плазменная очистка — это новый, экологически чистый, эффективный и стабильный способ обработки поверхности.

Описание продукта Вакуумного плазменного очистителя Системы плазменной очистки Эффективное и экологически чистое оборудование для очистки поверхности:

1. Фиксатор для размещения продукта гибкий, может адаптироваться к неровным продуктам.
2. Горизонтальный дизайн электрода удовлетворяет требованиям обработки мягких продуктов.
3. Низкое потребление энергии и газа.
4. Удобный способ установки и снятия плиты.
5. Интеграция вакуумной системы, малый размер.
6. Рациональное пространство для реакции плазмы, что позволяет сделать обработку более равномерной.
7. Интегрированная система управления делает эксплуатацию более удобной.

Отраслевое применение Вакуумного плазменного очистителя Системы плазменной очистки Эффективное и экологически чистое оборудование для очистки поверхности:

1. Телефонная промышленность: активация очистки поверхности TP, средних рамок, задних крышек.
2. Промышленность PCB/FPC: сверление отверстий и очистка поверхности, агломерация поверхности и очистка.
3. Полупроводниковая промышленность: упаковка полупроводников, модули камер, упаковка светодиодов, упаковка BGA, предварительная обработка Wire Bond.
4. Керамика: упаковка, предварительная обработка клея.
5. Этчинг грубости поверхности: грубость поверхности PI, этчинг PPS, удаление PN-структуры полупроводникового кремниевого чипа, этчинг пленки ITO.
6. Очистка поверхности перед применением ITO.

Параметры продукта

Спецификация оборудования Вакуумного плазменного очистителя Системы плазменной очистки Эффективное и экологически чистое оборудование для очистки поверхности:

Система питания		Радиочастотный источник питания	Источник питания средней частоты
Мощность	0~600W	0~1000W или 0-2000W
Частота	13.56MHz	40KHz
Вакуумный агрегат	Двухступенчатый ротационный насос (масляный насос)	Двухступенчатый ротационный насос (масляный насос) или насос Roots + одноступенчатый ротационный насос
Вакуумные трубопроводы	Всё из нержавеющей стали и высокопрочные вакуумные мехи
Текстура	Алюминиевый сплав (камеры из нержавеющей стали по индивидуальному заказу)
Толщина	25mm
Внутренние размеры камеры	500×500×670mm (ширина × высота × глубина)
Эффективный размер электрода	587×470mm (ширина × глубина)
Доступное пространственное расстояние	34mm
Расположение электрода	Горизонтальная компоновка, активное извлечение
Рабочая поднос	Стандартный комплект, материал на выбор (алюминий, стальная сетка)
Рабочее пространство	8 уровней
Газовая система	Диапазон потока	0~300SCCM
Процесс газового пути	Стандартный с двумя, может быть настроен
Система управления	Управление системами	PLC
Способ доставки	7-дюймовый сенсорный экран
Другие параметры	Габаритные размеры	1020×1720×1120mm (ширина×высота×глубина)
Вес	350KG
Цвет внешнего вида оборудования	Серый

Детализированные фотографии